반도체 공정가스 분석기
Gasboard-2060
NDIR SiF₄ 가스 센서
- 모델명
- Gasboard-2060
- 제품 분류
- 가스 분석기 › 반도체 공정가스 분석기
측정항목: SiF4
적용 산업반도체
측정 원리NDIR(비분산 적외선)
제품 개요
Gasboard-2060은 실리콘 계열 CVD 증착 챔버의 세정 종료점(EPD)을 실시간으로 판단하기 위한 고성능 SiF4 가스 센서입니다. 비분산 적외선(NDIR) 기술과 전용 설계 가스 챔버로 세정 공정 중 SiF4 농도를 높은 선택성으로 정밀하게 측정합니다.
SiF4 농도를 실시간으로 확인해 세정 종료 시점을 빠르고 정확하게 알려 주므로, 세정 시간과 가스 사용량을 줄이고 챔버 마모를 줄여 부품 수명을 늘리는 데 도움이 됩니다.
모듈식 설계로 설치가 쉽고, 아날로그·디지털 출력을 모두 지원해 교정·조정과 시스템 연동, 유지보수가 편리합니다.
주요 특징
- NDIR 기술로 SiF4를 높은 감도와 정확도로 측정
- 빠른 응답으로 증착 챔버 세정 종료점을 정밀하게 판단
- 낮은 영점 드리프트와 높은 반복성
- 시스템 연동이 쉬운 모듈식 설계
- 아날로그 및 디지털 통신 출력
측정항목
| 항목 | 측정범위 |
|---|---|
| SiF4 | 흡광도 0.0~0.2 |
제품 사양
| 측정항목 | SiF4 |
|---|---|
| 검출 원리 | NDIR |
| 측정범위 | (0.0-0.2) Absorbance |
| 응답시간 | T90＜2s |
| 데이터 보고 주기 | 0.5s |
| 아날로그 출력 | 1-10VDC |
| 입력 전원 | 15VDC (≤300mA), 24VDC |
| 디지털 통신 | RS232 |
| 샘플링 포트 | KF16 |
| 크기 | 200×120×75.5mm |
| 누설률 | ＜1×10-8 Pa·m3/s (He) |
| 동작 온도 | (5～65) ℃ |
적용 분야
- 반도체 CVD 챔버 세정 종료점 검출(EPD)
