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반도체

반도체 공정은 미량의 입자와 공정가스 농도 변화가 수율에 직접 영향을 줍니다. 클린룸 입자 관리, 공정가스 분석, 특수가스 누출 감시에 쓰이는 장비를 모았습니다.

필요한 장비 분류

휴대용 입자 계수기 1
온라인 입자 계수기 5
다성분 가스 분석기 1
반도체 공정가스 분석기 3

휴대용 입자 계수기

휴대용 입자 계수기

28.3 LPM 휴대용 광학식 입자 계수기

측정항목: >0.3 μm, >0.5 μm, >1.0 μm, >5.0 μm, >10 μm

온라인 입자 계수기

온라인 입자 계수기

28.3 LPM 온라인 입자 계수기 (디스플레이)

측정항목: >0.3 μm, >0.5 μm, >1.0 μm, >5.0 μm, >10 μm

온라인 입자 계수기

28.3 LPM 온라인 입자 계수기

측정항목: >0.3 μm, >0.5 μm, >1.0 μm, >5.0 μm, >10 μm

온라인 입자 계수기

2.83 LPM 온라인 입자 계수기 (디스플레이)

측정항목: >0.3 μm, >0.5 μm, >1.0 μm, >2.5 μm, >5.0 μm, >10 μm

온라인 입자 계수기

2.83 LPM 온라인 입자 계수기

측정항목: >0.3 μm, >0.5 μm, >1.0 μm, >2.5 μm, >5.0 μm, >10 μm

온라인 입자 계수기

28.3 LPM 온라인 입자 계수기 OPC-8050

측정항목: 0.5 μm, 1.0 μm, 5.0 μm, 10 μm, 25 μm, 50 μm

다성분 가스 분석기

다성분 가스 분석기

복합가스 측정기 (설치형)

측정항목: CO, CO2, CH4, H2S, NH3, O2, H2, NO, SO2, HF, PH3, VOC, HCHO, HCl, SiO2

반도체 공정가스 분석기

반도체 공정가스 분석기

미량 산소 가스 분석기

측정항목: O2

반도체 공정가스 분석기

NDIR SiF₄ 가스 센서

측정항목: SiF4

반도체 공정가스 분석기

NDIR WF₆ 가스 센서

측정항목: WF6

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